支撑后2nm工艺年代！ASML将发货最新EUV光刻机EXE：5200 英特尔是买家
发布时间：2025-03-05 作者: 华体会hth中国体育快科技2月1日音讯，据国外新闻媒体报道称，ASML现已承认，行将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200，比较上代来说，体现愈加强悍，当然不会卖给我国厂商。
依照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款，其将具有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上），能够越来越好的为2nm工艺量产做支撑。
在这之前，ASML宣告英特尔订货了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机（一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量出产体系），这标志着他们在引进0.55 NA EUV的道路上又迈出了一步。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均供给了0.55数值孔径，比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度提高了，能够为更小的晶体管功用供给更高分辨率的形式。
EUV 0.55 NA 的规划旨在从2025年开端完成多个未来节点，这是业界初次布置，随后将选用相似密度的内存技能。
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